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工业技术 | 266篇 |
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1.
采用磁过滤阴极真空弧离子镀(FCVAD)技术在纯锆表面制备了厚度约为4μm的Cr金属层,对比研究了它们在不同温度水蒸汽环境中的氧化行为,并利用XRD、XPS、SEM及EDS分析了Cr涂层及氧化膜的物相组成、微观结构及成分分布。结果表明,在900、1000和1100℃水蒸汽环境中,镀Cr涂层大幅度降低了锆的氧化速率,其单位面积氧化增重仅为同一温度下锆基体的1/4、1/6和4/9。氧化初期,Cr涂层表面生成一层均匀致密的Cr_2O_3膜,当Cr层被消耗完后,Cr_2O_3/Zr界面上部分Cr_2O_3被Zr还原成金属Cr,锆基体氧化生成ZrO_2。镀Cr涂层样品的氧化激活能达293.17 kJ/mol。 相似文献
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柔性硬质纳米涂层具有高致密性、高表面完整性、高硬度、高韧性和高裂纹抵抗力特性,是新一代高性能纳米涂层的一个重要发展方向,但其制备难度高,难以利用传统涂层制备技术实现。深振荡磁控溅射(deeposcillation magnetron sputtering, DOMS)技术是一种新型的高功率脉冲磁控溅射技术,现已成为国际涂层研究领域的热点。DOMS技术通过一系列调制的电压微脉冲振荡波形,能够实现完全消除电弧放电和靶材近全离化,获得高密度、低离子能量和高束流密度的等离子体,能制备出具有低缺陷、高表面完整性、高致密性的高性能纳米涂层,并且对纳米涂层的成分、结构和性能实现"剪裁化"的可控制备。本文综述了柔性硬质纳米涂层的特征以及DOMS制备柔性硬质纳米涂层的最新进展。 相似文献
5.
目的 通过对2016—2020年郴州市毒蕈中毒事件的流行病学特征进行描述性分析,为制定毒蕈中毒预防控制措施提供科学依据。方法 收集和整理2016—2020年郴州市通过“食源性疾病事件报告系统”上报的毒蕈中毒事件资料,对事件发生的时间、地区、人群特征以及毒蕈来源、种类进行描述性分析。,利用ArcGIS 10.2软件进行空间分布地图绘制。结果 2016—2020年郴州市共报告毒蕈中毒事件131起,发病461例,死亡6例,病死率为1.3%;事件起数最多的是2020年,中毒发生时间集中在5~10月;事件报告起数和发病人数居前3位的依次是嘉禾县、北湖区和宜章县,多发生在农村地区;家庭是毒蕈中毒高发场所,毒蕈主要来源于市民自行采摘,也有部分从市场购买;已知毒蕈种类的中毒事件中的事件起数和发病例数前3位的依次为日本红菇、大青褶伞、近江粉褶菌,死亡病例由灰花纹鹅膏和亚稀褶红菇中毒引起。结论 应针对特定时间、地点和人群进行毒蕈中毒宣传教育,同时应加强对野生蕈市场销售的监管,开展毒蕈中毒的相关研究,以科学预防毒蕈中毒的发生。 相似文献
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研究采用多弧离子镀技术镀膜时,电弧放电阶段中电弧弧斑的运动对后续膜层质量与靶材烧蚀有着非常重要的影响,目前很少有弧斑运动相关的研究。研究通过外加脉冲磁场以实现对阴极靶面磁场分布的精确调控,探究了磁场分布对弧斑运动的影响,并结合分形理论分析弧斑的运动轨迹,系统研究了电弧放电过程中靶面电弧弧斑的运动特性。结果表明,在永磁铁磁场与脉冲磁场共同作用下,弧斑在原有的随机运动基础上叠加了反安培力方向的旋转运动与向靶沿扩散的漂移运动。随着靶面总磁场强度的上升,弧斑平均运动速度增加,弧斑寿命变短;弧斑运动范围可控,最大运动范围可覆盖靶面的90%以上;分形维数可控,镍铬合金靶和钛铝合金靶弧斑轨迹图像的最大分形维数可分别为1.145和1.159,对应靶材烧蚀区域面积达到92%。通过改进工艺参数,能够显著减少大颗粒污染并提升膜层质量,同时通过维数可预测靶材烧蚀情况,能更高效地利用靶材。 相似文献
8.
污泥离心脱水机作为污泥处理环节中重要的组成部分,其运行的好坏直接影响到水厂的无害化污水排放及运行能力。本文对影响其平稳运行的因素进行了技术研究,并制定了治理措施。通过综合治理,取得了良好的经济效益和社会效果。 相似文献
9.
对黄金冶炼废水进行了电催化氧化处理研究,考察了氯离子质量浓度、极板间距、电流密度等因素对氰化物和氨氮去除效果的影响。最佳工艺参数为:废水初始pH值9.28、氯离子初始质量浓度25 g/L、极板间距20 mm、电流密度16.3 mA/cm2、废水循环流速64 mL/min。在最佳工艺条件下,电解150 min,氰化物质量浓度从28.84 mg/L降至0.20 mg/L,氨氮质量浓度从700 mg/L降至7 mg/L,去除率分别为99.3%、99.0%,处理后废水中的总氰、氨氮均可达到《GB 8978—1996污水综合排放标准》一级标准。 相似文献
10.
廖斌 《数字社区&智能家居》2014,(26)
协同图形编辑是协同设计的一个重要研究方向,支持自然和谐的多用户并发交互是协同图形编辑的重点内容之一。对协同图形编辑系统的进行了设计,提出了相应的解决方案和技术措施。最后在Socket的基础上,给出一个协同图形编辑系统实例的初步探索。 相似文献