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1.
水果组织光学参数的激光图像无损测量技术   总被引:3,自引:0,他引:3  
为得到水果组织的光学特性参数,设计了用激光散射图像测量水果组织光学特性参数的试验装置,分析了苹果、梨、脐橙等水果组织的空间分辨漫反射光分布与距入射光源点的半径之间的相关性,采用基于漫射光传输理论研究了漫反射光分布,并应用偏最小二乘拟合方法确定了水果组织的光学参数,用此参数进行了水果组织中光子传输的蒙特卡罗模拟;将图像灰度测量结果与蒙特卡罗模拟结果进行了比较.结果表明,两者有很好的吻合性,最大误差为3.21%.光谱图像技术能准确地用于测量水果组织光学特性参数。  相似文献   
2.
Nanostructural zinc oxide films have been synthesized via vapor phase growth by heating pure zinc powder. Scanning electron microscopy (SEM) images and X-ray diffraction (XRD) results showed that four kinds of morphologies ZnO nanostructures namely nanowires, well-aligned nanorods, nanofeathers and hexagonal nanorods were formed and all of wurtzite structural crystals. The results indicated that the temperature and substrate play an important role in the formation of different morphologies of ZnO nanostructures. The photoluminescence (PL) measurement was carried out for the wellaligned nanorods ZnO sample and blue emission peaks at 420 and 444 nm have been observed at room temperature. And the blue emission mechanism is discussed.  相似文献   
3.
Radio Frequency plasma enhanced Chemical Vapor Deposition (RF CVD) using N2, SiH4 and C2H4 as the reaction sources was used to prepare amorphous ternary Si x C y N z thin films. The chemical states of the C, Si and N atoms in the films were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR). The refractive indexn, extinction coefficientk and optical band gapE opt of the thin films were investigated by UV-visible spectrophotometer and spectroscopic ellipsometer. The results show that a complex chemical bonding network rather than a simple mixture of Si3N4, SiC, CN x and a-C etc., may exist in the ternary thin films. Then's of the films are within the range of 1. 90–2. 45, andE opt's of all samples are within the range of 2. 71–2. 86 eV. Foundation item: Supported by the National Natural Science Foundation of China (19975035) Biography: Li Jin-chai (1946-), male, Professor, research direction: novel functional materials films & ion beam modification of materials.  相似文献   
4.
报道硫代酸甲酯(HL)及其镍的配合物(N iL2)的合成,通过紫外、红外、元素分析及单晶X射线衍射等对化合物的结构进行了表征.用调Q Nd:YAG脉冲激光做光源,通过Z-扫描技术研究了它们的三阶非线性光学性质.结果表明在生成配合物时,配体失去了一个质子,形成负一价的双齿配体,与二价镍配位,镍处于四配位的平面型环境;配合物在532nm的激光作用下,可显示出较强的三阶非线性光学效应.  相似文献   
5.
设计合成了三种含三种不同取代基 ( -N(CH3) 2 ,-OCH3,-NO2 )氨基硫脲衍生物配体及其IIB族配合物M(II)X2 L2 (M =Zn ,Cd ;X =Cl,Br,I) ,并通过元素分析和IR光谱进行了表征。测试了它们的粉末SHG效应。在此基础上结合理论计算和以前的工作 ,讨论了该类配合物产生SHG效应的微观原因。最后 ,对NLO(nonlinearoptical)配合物的分子设计及配合物产生宏观微观NLO效应的联系进行了探讨。  相似文献   
6.
采用中频反应磁控溅射技术在玻璃基片上制备了Al2O3薄膜,提出了一种利用透射光谱来简单有效地分析弱吸收薄膜的光学特性及与光学相关的其他物理特性的方法.对Al2O3薄膜进行透射谱测量,通过对薄膜折射率、吸收系数、膜厚度与入射光波长相互关系的分析,获得了Al2O3薄膜在400~1 100 nm区域内的折射率、吸收系数与入射光波长的关系式,以及Al2O3薄膜厚度的计算公式.  相似文献   
7.
本文综合归类了目前制备纳米结构硅的主要方法:等离子体化学气相沉积.激光诱导化学气相沉积和热蒸发法(制纳米晶硅)及电化学腐蚀法(制多孔硅),给出各种方法的典型参数及其对纳米硅结构的影响,分析了纳米硅结构特征,比较分析了各种方法制备的纳米硅的光学性能,如光学能隙Eoptg,光致/电致发光谱峰位波长、半高宽及影响因素等,并对纳米硅研究的发展前景进行展望.  相似文献   
8.
0.5—2.0eV红外光自动椭偏谱仪的研制与应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文介绍了一种新型的0.5~2.0eV红外光自动椭偏谱仪.采用Boxcar积分平均仪来对红外探测器输出的信号进行平均处理.大大提高了信噪比.仪器波长的变换、检偏器的步进旋转、信号的采集与处理均由微机控制.测量精度高,适用于研究材料的红外光学特性.文中给出了GaSb单晶材料红外范围光学参数的测量结果.  相似文献   
9.
偏压磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:A1透明导电膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
用射频偏压磁控溅射法 ,在水冷透明聚脂胶片上制备出了附着力强的ZnO :Al (AluminiumdopedZincOxide ,AZO)透明导电膜 ,膜的最小电阻率为 1.11× 10 -3 Ωcm ,薄膜的透过率高于 85 % .薄膜为多晶纤锌矿结构 ,垂直于衬底的C轴具有 [0 0 2 ]方向的择优取向 .重点探讨了薄膜的结构、光电性质与衬底所加负偏压的关系 .  相似文献   
10.
The paper reports our novel work on chemical vapor deposition coating of titanium nitride (TIN) thin film on glass for energy saving. TiN films were deposited on glass substrates by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) using titanium tetrachloride (TiCl4) and ammonia (NH3) as precursors. As a result, TiN films with a thickness of 500 nm were obtained. X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), four-point probe method and optical spectroscopy were respectively employed to study the crystallization, microstructure, surface morphology, electrical and optical properties of the coated TiN films. The deposited TiN films are of NaCI structure with a preferred (200) orientation. The particles in the film are uniform. The reflectivity of the TiN coating in the near-infrared (NIR) band can reach over 40%, the visible transmittance is approximately 60%, and the visible refiectivity is lower than 10%. The sheet electrical resistance is 34.5 Ω. According to Drude theory, the lower sheet resistance of 34.5 Ω gives a high reflectivity of 71.5% around middle-far infrared band. The coated films exhibit good energy-saving performance.  相似文献   
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